וסת לחץ גז בלחץ גבוה 25MPA משמש עבור גז רעיל מאכל מעבדתי תמונה מוצגת

וסת לחץ גז בלחץ גבוה 25MPA משמש עבור גז רעיל קורוזיבי במעבדה

תיאור קצר:

תכונות

1. מבנה חישת בוכנה שלב אחד

2. טווח כוונון לחץ יציאה גדול יותר

3. זה יכול לשמש עבור גז סטנדרטי וגז לא מאכל

4. התקן אלמנט מסנן 20 מיקרון בכניסה

5. ניתן לספק אפשרויות יישום סביבת חמצן

שלחו לנו מייל

פירוט המוצר

וִידֵאוֹ

פרמטרים

יישומים

שאלות נפוצות

תגיות מוצר

תיאור מוצר

תכונות

1. מבנה חישת בוכנה שלב אחד

2. טווח כוונון לחץ יציאה גדול יותר

3. זה יכול לשמש עבור גז סטנדרטי וגז לא מאכל

4. התקן אלמנט מסנן 20 מיקרון בכניסה

5. ניתן לספק אפשרויות יישום סביבת חמצן

קודם: שסתום דיאפרגמה פניאומטית גז נירוסטה טוהר גבוה 1/4 אינץ' בלחץ גבוה

הַבָּא: AFK נירוסטה 1/4 אינץ' 3/8 אינץ' 1/2 אינץ' שסתום בטיחות גז תעשייתי

מפרט של ווסת לחץ גז

נתונים טכניים

1. לחץ כניסה מקסימלי: 4500psi או 6000PSI

2. טווח לחץ יציאה: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

3. חומר של רכיבים פנימיים:

מושב שסתום: PCTFE

בוכנה: 316 ליטר

טבעת O: FKM

אלמנט מסנן: 316L

4. טמפרטורת עבודה: – 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

5. קצב דליפה (הליום): בפנים: ללא בועות נראות לעין חיצוני: ללא בועות נראות לעין

6. מקדם זרימה (CV): 0.09

7. יציאת אב: כניסה: 1 / 4NPT יציאה: 1 / 4NPT יציאת מד לחץ: 1 / 4NPT

R41	L	B	B	D	G	00	00	P
פריט	חומרי גוף	חור גוף	לחץ כניסה	לחץ יציאה	מד לחץ	גודל כניסה	גודל שקע	אפשרויות
R41	L:316	A	B:6000psig	D:0~3000psig	G: מד MPa	00:1/4 אינץ' NPT(F)	00:1/4 אינץ' NPT(F)	P: הרכבת לוח
	ב: פליז	B	D:4500psig	E:0~1500psig	P: מד Psig/bar	00:1/4 אינץ' NPT(M)	00:1/4 אינץ' NPT(M)
		D		F:0~500psig	W: אין מד	10:1/8 אינץ'	10:1/8 אינץ'
		G		G:0~250psig		11:1/4 אינץ'	11:1/4 אינץ'
		J				12:3/8 אינץ'	12:3/8 אינץ'
		M				15:6 מ"מ OD	15:6 מ"מ OD
						OD 16:8 מ"מ	OD 16:8 מ"מ

טכניקת ניקיון

סטנדרטי (WK-BA)
האביזרים המרותכים מנוקים בהתאם למפרטי הניקוי והאריזה הסטנדרטיים שלנו.
אין צורך להוסיף סיומות בעת ההזמנה.
ניקוי חמצן (WK - O2)
קיימים מפרטים לניקוי ואריזה של מוצרים עבור סביבות חמצן.
זה עומד בדרישות הניקיון ASTM G93 Class C.בעת ההזמנה יש להוסיף -O2 לסוף מספר ההזמנה.

תעשיות מעורבות

TFT-LCD

תהליך הגזים המיוחדים המשמשים בתהליך שקיעת CVD בתהליך ייצור TFT-LCD הם סילאן (S1H4), אמוניה (NH3), פוספין (PH3), תחמוצת חנקן (N2O), NF3 וכו'. בנוסף, מימן בטוהר גבוה וגבוה גם חנקן טהור וגזים בתפזורת אחרים מעורבים בתהליך.ארגון משמש בתהליך הקפיצה, והגז ליצירת הסרט המקרטע הוא החומר העיקרי לקפיצה.ראשית, נדרש שהגז שיוצר הסרט לא יוכל להגיב עם המטרה, והגז המתאים ביותר הוא גז אינרטי.כמות גדולה של גז מיוחד תשמש גם בתהליך התחריט, בעוד שהגז המיוחד האלקטרוני הוא ברובו דליק, נפיץ ורעיל מאוד, ולכן הדרישות למעגל הגז ולטכנולוגיה גבוהות מאוד.וופיי טכנולוגיה מתמחה בתכנון והתקנה של מערכת הולכת גז מיוחדת בטוהר גבוה במיוחד.

גזים מיוחדים משמשים בעיקר בתהליכי יצירת סרט ותחריט יבש בתעשיית LCD.ישנם סוגים רבים של LCD, ביניהם TFT-LCD היא טכנולוגיית ה-LCD הנפוצה ביותר בשל זמן התגובה המהיר, איכות ההדמיה הגבוהה והעלות הנמוכה בהדרגה.ניתן לחלק את תהליך הייצור של לוח TFT-LCD לשלושה שלבים: מערך קדמי, תא אמצעי ומכלול מודול אחורי.הגז המיוחד האלקטרוני משמש בעיקר בשלבי יצירת הסרט והתחריט היבש של תהליך המערך הקדמי.לאחר תהליכי יצירת סרט מרובים, סרטי SiNx שאינם מתכתיים וסרטי מתכת כגון רשת, מקור, ניקוז ו-ITO מופקדים בהתאמה על המצע.

1. מי אנחנו?

אנחנו מבוססים בגואנגדונג, סין, מתחילים משנת 2011, מוכרים לדרום מזרח אסיה (20.00%), אפריקה (20.00%), מזרח אסיה (10.00%), המזרח התיכון (10.00%), שוק מקומי (5.00%), דרום אסיה (5.00%), צפון אירופה (5.00%), מרכז אמריקה (5.00%), מערב אירופה (5.00%), דרום אמריקה (5.00%), מזרח אירופה (5.00%), צפון אמריקה (5.00%).יש בסך הכל כ-51-100 אנשים במשרד שלנו.

2. איך אנחנו יכולים להבטיח איכות?

תמיד מדגם טרום ייצור לפני ייצור המוני;בדיקה סופית תמיד לפני המשלוח;

3. מה אתה יכול לקנות מאיתנו?

וסת לחץ, אביזרי צינור, שסתום סולנואיד, שסתום מחט, שסתום סימון

4. למה אתה צריך לקנות מאיתנו לא מספקים אחרים?

יש לנו כמה שנים עם מהנדסים מקצועיים וטכנאים מסורים. יכולים לספק עבורך מוצרי אבטחה

5. אילו שירותים אנחנו יכולים לספק?

תנאי משלוח מקובלים: FOB,CIF,EXW；

מטבע תשלום מקובל: USD,CNY;

סוג תשלום מקובל: T/T, L/C, ווסטרן יוניון;

שפה מדוברת: אנגלית, סינית

כתבו כאן את הודעתכם ושלחו אותה אלינו